株式会社 倉田技研

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概要　会社沿革　超高温炉　真空・雰囲気炉　真空ホットプレス、真空溶解炉

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「熱 の追求」

創業当初から超高温域に挑戦し、３５００℃を達成しました。　

　（温度確認は高配向性黒鉛の作製により確認）

SCCシリーズ（３０００℃〜３３００℃）は好評頂いております。

「一品一様の装置作り」

お客様の要求仕様に応じた、最良の装置を提案致します。

受注した装置に対して設計から製作・納入まで同一の責任者が担当いたします。

研究段階から生産設備までの装置をサポート致します。

一サイクル無人自動運転にも対応致します。

「新素材への挑戦」

新素材開発をサポートするパイオニア魂を持った技術屋集団です。　

様々な要望にチャレンジ致します。

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	概　要		製造品目
社　　　名	株式会社 倉田技研	１	超高温炉
代　表　者	代表取締役　　倉田　和彦		抵抗式（焼成炉，黒鉛化炉）
創　業　者	会　 長 　 　　倉田　孝	２	真空・雰囲気炉
創　　　業	1981年10月12日　倉田技研		抵抗式（炭化炉，アニール炉，焼結炉）
設　　　立	1985年 5月27日　(株)倉田技研	３	真空ホットプレス
資　本　金	10,000,000円		抵抗・誘導式
本　　　社	滋賀県湖南市下田3782番地25	４	真空溶解炉
	TEL 0748-75-0688		抵抗・誘導式
	FAX 0748-75-2690	５	新素材開発炉
工　　　場	大阪府豊中市原田中1丁目17番30号		ナノチューブ・複合材料・超伝導材料
	TEL 06-4865-5050
	FAX 06-4865-5100

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会社沿革

1981年10月（昭和56年）	個人経営にて倉田技研発足
1982年 5月（昭和57年）	大阪工業技術試験所（現　産業技術総合研究所）殿
	の技術指導により SCC 炉開発（3000℃）
1983年 1月（昭和58年）	大阪工業技術試験所（現　産業技術総合研究所）殿
	の技術指導により SCC-U 炉開発（3300℃）
1983年 3月（昭和58年）	光ファイバー用加熱炉納入
1985年 5月（昭和60年）	個人経営から株式会社倉田技研設立
1987年 9月（昭和57年）	大阪工業技術試験所（現　産業技術総合研究所）殿
	の技術指導により SCC-E 炉開発（3500℃）
1989年 2月（平成 1年）	超伝導用CO2レーザー装置納入
1990年 3月（平成 2年）	超高温引張、曲げ試験装置納入（3000℃）
1991年 1月（平成 3年）	DLCコーティング用プラズマアークCVD装置納入
1991年 2月（平成 3年）	SiC用熱CVD装置納入
1998年 3月（平成10年）	ロボット搬送式多層膜プラズマ実験装置納入
1999年 2月（平成11年）	20インチウェハー用大型薄膜多目的装置納入
2001年 9月（平成13年）	アルミ複合材用連続鋳造装置納入（双ロール方式）
2002年 3月（平成14年）	磁石合金用急速冷却式誘導加熱溶解炉納入
2002年 4月（平成14年）	超伝導材料用真空封止装置納入
2002年 7月（平成14年）	CNT用基板枚葉式CVD装置納入
2005年 3月（平成17年）	燃料電池用連続巻取式成膜装置納入
2007年 6月（平成19年）	大型超高温装置納入（3000℃　80リットル）
2007年12月（平成19年）	社長交替
2009年 4月（平成21年）	一方向凝固溶解炉納入
2010年 2月（平成22年）	急速加熱超高温炉納入
2011年 8月（平成23年）	新工場に移転

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詳細については下記に御連絡頂ければカタログ及び
見積、見積仕様書、図面等を送付させて頂きます。

株式会社 倉田技研

〒520-3201　滋賀県湖南市下田３７８２番地２５

TEL 0748-75-0688　　FAX 0748-75-2690

kurata@js9.so-net.ne.jp

担当　　　安東　元樹

　　　　　　満田　智久